19231

ИСТОЧНИКИ ИОНОВ

Лекция

Физика

ИСТОЧНИКИ ИОНОВ Газоразрядные источники ионов нашли большое применение для создания приборов и устройств в научных экспериментах и технологических процессах. Ионные источники широко используются в работах по управляемому термоядерному синтезу и на совре...

Русский

2013-07-11

87.5 KB

11 чел.

ИСТОЧНИКИ ИОНОВ

       Газоразрядные источники ионов нашли большое применение для создания приборов и устройств в научных экспериментах и технологических процессах. Ионные источники широко используются в работах по управляемому термоядерному синтезу и на современных ускорителях. Высокочастотные и дуговые плазмотроны применяются в плазмохимии, для резки металлов и напыления различных элементов. Плазменные и электростатические ускорители, как источники реактивной тяги были установлены в качестве корректирующих двигателей на ряде спутников.                                  

      В качестве исходной среды плазмотроны содержат низкотемпературную плазму, из которой происходит извлечение ионов (рис.1). К одной из границ плазмы  S1 примыкает электродная система, состоящая из электродов  S2 и  S3. Потенциалы, которые подаются на данные электроды, обеспечивают извлечение и последующее ускорение ионов.

         

                                                                                          

                                                                                Рис.1

                                                                                                                                  

      В качестве устройства рассмотрим схему и параметры плазматрона, нашедшего применение в плазменных экспериментах и в качестве источника ионов на ускорителях заряженных частиц (рис.2). Основными частями плазматрона являются: 1- катод, 2- промежуточный электрод, 3-анод, 4-извлекающий электрод. Катод изготовляется из вольфрамовой нити, а отверстия в промежуточном электроде и в аноде составляют п5 мм и А 1,5 мм соответственно.                  

 

                                       Рис.2

                                                                                                        

Потенциалы, подаваемые на все электроды, указаны на рис.2. К промежуточному электроду подводится водяное охлаждение. Давление водорода в межэлектродном пространстве поддерживается на уровне  10-2 торр. В области отверстия промежуточного электрода (2) располагается ярко светящаяся плазменная сфера, окруженная двойным слоем (5), который представляет собой область интенсивной ионизации. Сферичность двойного слоя приводит к фокусировке электронов, ускоренных в двойном слое. Следует заметить, что при потребляемой мощности в 70 Вт и расходе газа в 25 см3/ч плазмотрон выдает пучок протонов с энергией около 60 кэВ и током 7,5 мА.          

      В качестве более совершенной системы, относительно плазматрона, в ряде случаев используется дуоплазматрон. Существенным отличием дуоплазматрона является создание достаточно сильного магнитного поля с помощью постоянных магнитов диапазона 0,5-10 кЭ в области двойного слоя и между промежуточным электродом и анодом (рис.2). В дуоплазматроне сжатие плазмы благодаря фокусирующей системе сочетается с действием неоднородного магнитного поля. В результате в дуоплазматронах достигается при большой вкладываемой мощности большая сила тока в пучке – до 0,5-1 А.                                                                                                           

      Плазма ВЧ -разряда в ряде случаев находит технологическое применение, как, например, в ВЧ -плазматронах (рис.3). Данное устройство позволяет получить направленный поток плазмы с температурой достигающей 10000 К. В данных плазматронах, как правило, используется индукционное возбуждение (рис.3), а мощность генераторов для различного типа устройств находится в диапазоне P=1 кВт-1 МВт при частотах в интервале f=1-15 МГц. В ряде случаев ввиду большой мощности требуется водяное охлаждение устройства. Корпус плазматрона составляет керамическая труба (2), в который вдувается через сопла (3) рабочий газ: воздух, аргон, кислород, азот и т.д. Обычно высокочастотная плазма образуется в области расположения индуктора (1), но в силу наличия потока газа плазменный шнур (4) приобретает вытянутую и заостренную форму (рис.3). Весьма эффективной является вихревая стабилизация газового потока (рис.3), при которой газ вдувается под углом к оси плазматрона.

                                              Рис.3

                                                                                                                                                                                                                 

      Рассмотрим распределение температуры в ВЧ –плазматроне (рис.4). Измерения температуры в данном примере проводились методом относительных интенсивностей спектральных линий. Индуктор (1) расположен вокруг керамической трубки (2) (внутренний диаметр 3 см), в которой создается плазма (3). В качестве рабочего газа использовался аргон при расходе газа 15 л/мин. Мощность генератора составляла 2,5 кВт при рабочей частоте 25 МГц. Внутренние области плазмы имеют торообразную форму и обладают максимальной температурой  t92000 при соответствующей проводимости 29 Ом--1см-1.

         

                                                         Рис.4

                                                                                                               

      ВЧ –плазмотроны применяются в следующих областях: 1) плазмохимия, 2) резка металлов, 3) обработка порошковых материалов. Рассмотрим устройство ВЧ –плазматрона, используемого для резки металлов и термообработки поверхностей (рис.5). Для сужения плазменной струи (1) в данной конструкции используется сопловая насадка (2) из тугоплавкого металла, имеющая водяное охлаждение (3). Частота генератора в данном примере составляла 1,8 МГц, при расходе газа в 40-150 л/мин, и скорости газовой струи (4) (воздух, кислород)  40-190 м/c. Вся конструкция находится внутри керамической трубы (5), вокруг которой расположен индуктор генератора (6). В результате применения насадки плотность потока плазмы увеличивается с 400 Вт/см2 до 4000 Вт/см2, что позволяет проводить эффективные технологические операции по резке металлов.

                                              Рис.5

                                                                                                    

                                                    

      Достаточно известным плазменным ускорителем, обладающим некоторыми рекордными параметрами является рельсотрон. Представим схематическое устройство рельсотрона (рис.6). Основу устройства составляют две металлические пластины (1) – “рельсы”, закрепленные на фиксированном расстоянии, между которыми на одном торце вставляется пластинка из диэлектрика (2) или тонкая металлическая фольга. При использовании рельсотрона как инжектора плазмы вся конструкция располагается в вакуумной камере. В ряде случаев эксперименты с рельсотронами проводятся при атмосферном давлении. К пластинам (1) рельсотрона подключается генератор тока (4), в качестве которого в различных системах используются: конденсаторные накопители, униполярные генераторы и т.д. Прохождение сильного тока вызывает испарение диэлектрика или взрыв фольги (2) и образование плазменной оболочки (3),  которая под действием силы Ампера начинает ускоряться между рельсами. Длина рельсов в ряде конструкций составляет от 10 см до 2 м.  В мощных системах сила тока достигает 105 А при энергии конденсаторной батареи  500 кДж. Скорости плазменных сгустков достигают скоростей 10 км/с в вакууме. В отдельных экспериментах, проводимых в атмосфере, плазменная оболочка работала как своеобразный поршень и ускоряла легкие предметы массой порядка 1 г до скоростей порядка 10 км/с.

                                                   Рис.6

      Более совершенной системой плазменного ускорителя  является коаксиальный инжектор (рис.7). Данный ускоритель позволяет получить плазменные сгустки достаточно правильной и устойчивой формы. Конструкцию инжектора составляют два металлических коаксиальных цилиндра (1) и (2),  разделенных между собой диэлектрическим кольцом (4). Для питания инжектора обычно используется емкостной накопитель, в который входит управляемый разрядник (5) и конденсаторная батарея (6).

                                                Рис.7  

Для работы устройства в камере создается вакуум. На электроды инжектора подается импульсное напряжение от емкостного генератора. Одновременно с подачей импульса в пространства между электродами вблизи диэлектрика (4) впрыскивается порция рабочего газа. Вначале происходит пробой по поверхности диэлектрика, а затем наступает пробой в газовом сгустке. Образовавшаяся плазма при усилении тока начинает ускоряться под действием силы Ампера. На выходе из инжектора плазма обычно имеет торообразную форму, которая затем при движении в пространстве приобретает вид сгустка неправильной формы. Скорость плазмы в коаксиальных инжекторах составляет v=1-10 км/с.                                                                                                    

                                              


S3

S2

S1



плазма

5

4

2

1

U2=10 В

К

А

U1=0

U3=30 В

U4=70 В

U5=-60 кВ

4

3

2

1

2,7 Ом-1см-1

18

27

72000

75000

89000

92000

2

1

3

29

3

4

1

2

5

6

~

1

2

3

4

1

2

3

4

5

6


 

А также другие работы, которые могут Вас заинтересовать

33559. Основы управления человеческими ресурсами 25.5 KB
  Основные направления управления: Кадровое планирование Набор и отбор персонала внешний: СМИ Службы занятости частные агенства по найму связи со школами и т. привитие новой организациоонй культуры Достижение квалификации Профессиональное обучение персонала новый. Цель кадрового планирования: Оценка имеющихся трудовых ресурсов текучесть кадров производительность труда соответствие количествен и кач состава персонала штатному расписанию простоев потерях рабочего времени нетрудоспособности персонала перевод на другие места...
33560. Требования, предъявляемые к руководителям. Оценка труда руководителя 33.5 KB
  Навыки и умения которыми должны обладать руководители могу быть объединены в 3 категории: Концептуальные; Человеческие; Технические. Руководители высшего звена Концептуальные навыки Человеческие навыки Технические навыки Руководители среднего звена Руководители низового звена Неуправленческие работники персонал Концептуальные навыки когнитивные познавательные способности человека воспринимать организацию как единое целое и в тоже время четко выделять взаимосвязи ее частей. Концептуальные навыки необходимы всем руководителям но особое...
33561. Стиль руководства. Выбор стиля руководства 48.5 KB
  Стиль руководства. Выбор стиля руководства Негативное и позитивное принуждение к труду. Влияние внешней среды на стиль руководства. Понятие стиля руководства.
33562. Предмет и основные понятия социологии управления 33 KB
  Предмет и основные понятия социологии управления Социологий управления как отрасль появилась в 20 веке в 4050ые годы.значимость управленческих процессов в обществе и накопленный общей социологией объем знаний в области управления. СУ это синтез теории управления социологии менеджмента политологии. Социология управления это наука о взаимосвязях и взаимодействиях которые складываются в системе управления с учетом различных предметных сфер и уровней деятельности а также форм методов и средств управленческих взаимодействий субъектов.
33563. Возникновение российского государства и первые этапы его эволюции 24.82 KB
  Основные теории возникновения государства. теологическая древнейшие представления о происхождении государства связывались с Божественной волей. происхождение государства основывали на законах природы рассматривая государственную структуру как живой организм: Берк Спенсер и др.
33564. Формирование русского централизованного государства и его развитие в 15-17 вв 84.5 KB
  Присоединение территорий способы: с помощью военной силы; экономическое подчинение; династический; новый порядок передачи власти от отца к старшему сыну; единая система управления решения принимаются центральными органами власти в Москве; опора на православную церковь; появление общегосударственной национальной идеи: идея о едином великом российском государстве; появление единой финансовой системы сбор дани трасформируется в сбор налогов; отсутствие внутренних торговых таможенных барьеров; единая внешняя политика;...
33565. Государственное управление в России в период абсолютизма 41.5 KB
  Реформы государственного управления в начале XIX в. Реформы просвещения Реформы Петра I произвели коренные изменения во всей системе государственного управления в России затронули все уровни власти и все стороны государственной жизни. В первую очередь изменения затронули роль и место главы государства в системе управления. Систему государственного управления созданную при Петре I можно охарактеризовать как абсолютизм.
33566. Государственное управление в Российской империи в конце XIX века – начале XX века 53.5 KB
  Государственная Дума 1906-1917 гг. Гор Дума Гор управу которую возглавлял городской глава. Государственная Дума 1906-1917 гг. Государственная Дума созывалась по решению царя.
33567. Государственное управление в РСФСР и СССР 57 KB
  Государственное управление в РСФСР и СССР Конституция РСФСР 1918 года формирование высших органов власти. Образование СССР распределение полномочий между СССР и союзными республиками. Становление государственного управления в первые годы советской власти образование СССР. Образование СССР.