93126

Классификация химиотерапевтических средств. Основные принципы химиотерапии

Доклад

Химия и фармакология

Основные принципы химиотерапии Рациональный выбор препарата (в зависимости от чувствительности возбудителя заболевания , сопутствующих заболеваний, анамнеза) Раннее начало лечения Путь введения(в зависимости от локализации, тяжести патологического процесса, сопутствующих заболеваний)...

Русский

2015-08-26

53.84 KB

2 чел.

Классификация химиотерапевтических средств. Основные принципы химиотерапии.

Классификация химиотерапевтических средств.

1. Антибиотики;

2. сульфаниламидные препараты;

2. производные нитрофурана, оксихинолина, хинолона;

3. противотуберкулезные средства;

4. противопротозойные средства;

5. противогрибковые средства;

6. противоглистные средства;

7. противовирусные средства;

8. противосифилитические средства.

Основные принципы химиотерапии

-Рациональный выбор препарата (в зависимости от чувствительности возбудителя заболевания , сопутствующих заболеваний, анамнеза)

-Раннее начало лечения

- Путь введения(в зависимости от локализации, тяжести патологического процесса, сопутствующих заболеваний)

-Выбор дозы для создания терапевтической концентрации ( в зависимости от массы, возраста, пола, сопутствующей патологии)

-Интервал введения(в зависимости от фармакокинетических свойств препарата)

-Длительность лечения(принцип «шлейфа»- продолжение лечения до клинического и бактериологического выздоровления)

-Комбинированное лечение

-Повышение иммунологической реактивности организма (


 

А также другие работы, которые могут Вас заинтересовать

19187. Контроль твэлов и ТВС энергетических реакторов 319.5 KB
  ЛЕКЦИЯ 22 Контроль твэлов и ТВС энергетических реакторов Качество промышленной продукции регламентируется государственными и отраслевыми стандартами техническими условиями и другими нормативными документами. Твэлы являются продукцией для которой вероятность о
19188. Моделирование процессов производства твэлов и ТВС по методу IDEF3 в среде Bpwin 20.05 MB
  ЛЕКЦИЯ 23 Моделирование процессов производства твэлов и ТВС по методу IDEF3 в среде Bpwin Для оптимизации последовательности и времени выполнения технологических операций широко применяются методы сетевого планирования. В настоящее время известны программные продукты...
19189. Элементный и структурный анализ в развитии современных технологий 112 KB
  электронный конспект лекций Лекция 1 Элементный и структурный анализ в развитии современных технологий. Основные определения используемые в последующем изложении. Упругое рассеяние в лабораторной системе координат. Широкое внедрение тонкопленочных технологий ис...
19190. Упругое рассеяние в системе центра масс. Связь между сечением рассеяния и прицельным параметром 171 KB
  Лекция 2 Упругое рассеяние в системе центра масс. Связь между сечением рассеяния и прицельным параметром. Вычисление сечения рассеяния в лабораторной системе координат по известному сечению рассеяния в системе центра масс. Рассмотрим процесс упругого рассеяния в сис
19191. Сечение рассеяния в кулоновском и обратноквадратичном потенциале 136.5 KB
  Лекция 3 Сечение рассеяния в кулоновском и обратноквадратичном потенциале. Кулоновский потенциал взаимодействия имеющий вид Ur = /r где  = q1q2 – один из немногих потенциалов для которого можно вычислить аналитически дифференциальное сечение рассеяния. На его приме
19192. Упругое рассеяние иона на атоме при экранированном кулоновском потенциале взаимодействия 206 KB
  Лекция 4 Упругое рассеяние иона на атоме при экранированном кулоновском потенциале взаимодействия. Функция экранирования. Линдхардовское сечение рассеяния для экранированного кулоновского потенциала. Аппроксимация аналитическими выражениями. Рассмотрим процессы
19193. Ядерная и электронная тормозная способность и их связь с удельными потерями энергии при движении ионов в твердом теле 250 KB
  Лекция 5 Ядерная и электронная тормозная способность и их связь с удельными потерями энергии при движении ионов в твердом теле. Расчет тормозных способностей ионов для кулоновского и экранированного кулоновского потенциалов взаимодействия. Расчет тормозных способнос
19194. Расчет траекторных пробегов ионов в твердом теле и распределение внедренных ионов по глубине образца 285 KB
  Лекция 6 Расчет траекторных пробегов ионов в твердом теле и распределение внедренных ионов по глубине образца. Коэффициент отражения и зарядовый состав отраженных ионов. Под пробегом будем понимать путь который проходит ион в твердом теле до полной остановки. Перед в
19195. Расчет коэффициента распыления в модели Зигмунда. Эмпирические формулы расчета коэффициента распыления 167 KB
  Лекция 7 Расчет коэффициента распыления в модели Зигмунда. Эмпирические формулы расчета коэффициента распыления. Энергетическое и угловое распределение распыленных частиц. Ионное травление. Расчет скорости ионного травления. Профиль ионной имплантации при учете расп